发射光谱分析：（OES：Optical Emission Spectroscopy）
所谓发射光谱分析是指使用放电等离子体蒸发气化来激发样品中的目标元素，根据得到的元素固有的亮线光谱（原子光谱）的波长进行定性，并根据发光强度进行定量的分析方法。
广义上讲，激发放电（光源）还包括使用ICP（Inductively coupled plasma 电感耦合等离子体）作为激发放电（光源）的ICP发射光谱分析。但发射光谱分析（发光分析）或光电测光式发射光谱分析，是指使用火花放电/直流电弧放电 /辉光放电作为激发放电的发射光谱分析。发射光谱分析中，在固体金属样品和与电极之间发生放电。
发射光谱分析装置是在氩气氛围中进行火花放电，对火花脉冲的发光进行统计处理，采用可提高测定重现性（精度）的方式（PDA测光方式：Pulse Distribution Analysis）。
发射光谱分析装置可快速测定固体金属样品的元素组成，是在炼铁、铝冶炼工艺管理用中必不可少的手段。

光电发射光谱仪 PDA系列特点：

· 稳定性提高
采用新设计的机身/发光台，使稳定性大幅提高。

· 分析精度提高
采用新设计的发光台和适合分析范围的更适合的发光条件，从高含量到微量的元素均可进行高精度分析。

· 钢铁中氮的高灵敏度分析

氮的检测下限达5ppm。在炉中分析中，达到了可以代替气体分析仪的水平。

· 标准配备高功能

配备一直获得好评的PDA时间分解测光、形态分析处理功能。

· 丰富的产品系列，应对多种用途。